三氟化氮對人體的危害有哪些？三氟化氮是低毒物質(zhì)，但對眼睛、皮膚和呼吸道粘膜有強(qiáng)烈刺激作用，并腐蝕組織。吸入高濃度NF3會導(dǎo)致頭痛、嘔吐和腹瀉。長期吸入低濃度NF3會損傷牙齒和骨骼，引起牙齒黃斑變性和骨骼畸形。三氟化氮的應(yīng)用場合有哪些？目前而言，三氟化氮NF3主要用作電子工業(yè)中化學(xué)氣相沉積的等離子蝕刻劑和清洗劑。 三氟化氮(NF3)是微電子工業(yè)中優(yōu)良的等離子體刻蝕氣體，但也是一種低毒物質(zhì)，是一種對人體危害極大的電子特種氣體。能強(qiáng)烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織。長期吸入高濃度NF3會導(dǎo)致頭痛、嘔吐和腹瀉。長期吸入低濃度NF3會損傷牙齒和骨骼，引起牙齒黃斑變性和骨骼畸形。具有強(qiáng)氧化性。能與還原劑發(fā)生強(qiáng)烈反應(yīng)，引起燃燒和爆炸。接觸易燃物質(zhì)(如苯)和有機(jī)物(如糖、纖維素等。)會引起劇烈反應(yīng)，甚至引起燃燒。為了安全起見，在有三氟化氮存在的地方，應(yīng)設(shè)置三氟化氮探測器進(jìn)行在線監(jiān)測。

三氟化氮的用途：
三氟化氮的主要用途是用作氟化氫-氟化物氣體高能化學(xué)激光器的氟源，h2-O2與F2反應(yīng)能量的有效部分(約25%)可以通過激光輻射釋放出來。HF-OF激光器是化學(xué)激光器中最有前途的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中優(yōu)良的等離子體蝕刻氣體。在刻蝕硅和氮化硅時，三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體具有更高的刻蝕速率和選擇性，并且對表面無污染。特別是在厚度小于1.5微米的集成電路材料的刻蝕中，三氟化氮具有優(yōu)異的刻蝕速率和選擇性，不會在刻蝕表面留下殘留物，也是非常好的清洗劑。隨著納米技術(shù)的發(fā)展和電子工業(yè)的大規(guī)模發(fā)展，其需求量將與日俱增。

三氟化氮的危害：
三氟化氮是低毒物質(zhì)，但對眼睛、皮膚和呼吸道粘膜有強(qiáng)烈刺激作用，并腐蝕組織。吸入高濃度NF3會導(dǎo)致頭痛、嘔吐和腹瀉。長期吸入低濃度NF3會損傷牙齒和骨骼，引起牙齒黃斑變性和骨骼畸形。具有強(qiáng)氧化性。它能與還原劑發(fā)生強(qiáng)烈反應(yīng)，引起燃燒和爆炸。接觸易燃物質(zhì)(如苯)和有機(jī)物(如糖、纖維素等。)會引起劇烈反應(yīng)，甚至引起燃燒。高溫導(dǎo)致嚴(yán)重分解甚至爆炸。大鼠在吸入1000ppm l后死亡，但出現(xiàn)高鐵血紅蛋白血癥。大鼠吸入10000 ppm L死亡，服藥后4小時2500ppm死亡。最高允許濃度:10ppm(29mg/m3)。

三氟化氮在室溫下是一種無色、無味、穩(wěn)定的氣體，是一種強(qiáng)氧化劑。作為微電子工業(yè)中優(yōu)良的等離子體刻蝕氣體，三氟化氮在離子刻蝕過程中裂解成活性氟離子。這些氟離子用于硅和鎢化合物。高純?nèi)哂袃?yōu)異的蝕刻速率和選擇性(對于氧化硅和硅)。它在蝕刻過程中不會在蝕刻表面留下殘留物，是一種非常好的清潔劑。同時，在芯片制造和高能激光器中得到了廣泛的應(yīng)用。

以采用進(jìn)口高精度氣體傳感器的ERUN-PG51NF3固定在線式三氟化氮檢測報警儀為例，可以同時檢測并顯示三氟化氮NF3的濃度值，超標(biāo)聲光報警，并聯(lián)鎖自動控制排氣風(fēng)機(jī)的啟停，測量數(shù)據(jù)結(jié)果可通過分線制4-20 mA模擬信號量或總線制RS 485（Modbus RTU）數(shù)字量信號以及無線模式傳輸，通過ERUN-PG36E氣體報警控制器在值班室實(shí)時顯示三氟化氮的濃度值，并相應(yīng)的觸發(fā)報警動作。 固定式三氟化氮泄漏檢測儀技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品型號：ERUN-PG51NF3
檢測氣體：三氟化氮NF3
量程分辨率： 精度誤差：≤±2%F.S.（更高精度可訂制）
顯示方式：報警器1.7寸彩屏現(xiàn)場顯示濃度值；控制器主機(jī)9寸彩屏值班室顯示濃度值
報警方式：現(xiàn)場聲光報警，值班室聲光報警
數(shù)據(jù)傳輸：4-20mA、RS485，可選無線傳輸
防護(hù)功能：IP65級防水防塵
防爆功能：隔爆型，Ex d ⅡC T6 Gb級防爆

以上就是關(guān)于三氟化氮對人體的危害有哪些的相關(guān)介紹，三氟化氮，化學(xué)式是NF3，在常溫常壓狀態(tài)下是一種無色透明氣體，屬于對人體有毒有害的氣體，其主要危害是由于呼吸道吸入而中毒，能強(qiáng)烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道黏膜，腐蝕器官。至于三氟化氮的應(yīng)用場合有哪些這一問題，現(xiàn)階段三氟化氮主要作為等離子蝕刻劑用于微電子工業(yè)，也可當(dāng)做高能燃料使用。